ཁྱིམ / ཐོན་རྫས། / པི་ཨེཕ་ཨེ་ ཊུབ་དང་ གློག་སྦྱོར་རོགས། / པི་ཨེཕ་ཨེ་ གློག་སྦྱོར་གྱི་ཁྲོད། / བརྗོད༌དོན

ཐོན་རྫས།

མཐོ་རིམ་ PFA གློག་སྦྱོར་རོགས།

Ultra- High Purity Gaarantete: RANA གི་དབྱེ་རིམ་༡༠༠༠༠ ནང་ལུ་ རྡུལ་རྟེན་བཙག་ཐོག་ལས་ རྒྱུ་ཆ་ངོ་མ་ཚུ་ གཙང་ཏོག་ཏོ་སྦེ་བཟོ་སྟེ་ ལྕགས་ཀྱི་གློག་རྡུལ་བསྡོམས་རྩིས་ ༩༩.༩༩༩% གི་བཙག་འཐུ་གྲུབ་ཡོདཔ་ཨིན།<10ppb and no volatile impurities during welding.

འདྲི་དཔྱད་གཏང་།

སྐྱེལ་སྤྲོད་མགྱོགས་པ།
སྤུས་ཚད་འགན་ལེན།
༢༤/༧ ཚོང་མགྲོན་ཞབས་ཏོག།

ཐོན་སྐྱེད་ངོ་སྤྲོད།

Ultra-ཧའི་ཧའི་གཙང་མའི་འགན་ལེན་པ།: RANA གི་དབྱེ་རིམ་༡༠,༠༠༠ ནང་ རྡུལ་རྟེན་གྱི་ བཙོག་པ་ གཙང་མ་བཟོ་མི་འདི་གིས་ ལྕགས་རིགས་ཀྱི་ བཙོག་པ་ ཡོངས་བསྡོམས་ (Na--K, Fe3 ⁺) དང་ཅིག་ཁར་ བརྒྱ་ཆ་༩༩.༩༩༩ གི་ བཙག་འཐུ་གྲུབ་ཡོདཔ་ཨིན།<10ppb and no volatile impurities during welding.

གློག་སྦྱོར་གྱི་ལས་རིམ།: ནང་འདྲེན་འབད་མི་ གློག་ཐག་འཕྲུལ་ཆས་ཚུ་གིས་ དཀྱུས་ཚད་བཟོད་བསྲན་ ±༠.༠༢mm འདི་ བཞུ་བའི་ བཞུ་ཚད་དྲག་ཤོས་ཅིག་ཨིན། གློག་སྦྱོར་གྱི་མཉམ་སྦྲེལ་གྱི་ཤུགས་ཚད་འདི་ གཞི་རྟེན་རྒྱུ་ཆ་བརྒྱ་ཆ་༩༥ལུ་ལྷོད་དེ་ཡོདཔ་ད་ དེ་ཡང་ གློག་རྒྱུན་བཏང་མི་ CMP གི་ཆུ་གཡུར་ནང་ལུ་ བརྡར་ཤུགས་མེདཔ་དང་ ཡང་ན་ བརྡབ་འགྱོ་ནིའི་ ས་སྒོ་ཚུ་ ཆུང་ཀུ་སྦེ་ཡོདཔ་ཨིན།

གློག་རྡུལ་- རིམ་གྲངས་ལག་ཁྱེར།: SEMI F57{1}0031 གློག་རྡུལ་གྱི་དངོས་པོའི་ཚད་གཞི་དང་མཐུན་སྒྲིག་ཡོད། གློག་སྦྱོར་གྱི་ཝ་ཕར་ སྐྱེལ་འདྲེན་གྱི་ མཐུད་མཚམས་ཚུ་ བཙུགས་པའི་ཤུལ་ལས་ TOC བཤུབ་དགོ།<5ppb after 100 ultra-pure water rinses, meeting 3nm process chip production requirements.